特許
J-GLOBAL ID:200903035395966840

材料精製装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 丹羽 宏之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-125981
公開番号(公開出願番号):特開2002-322515
出願日: 2001年04月24日
公開日(公表日): 2002年11月08日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 結晶または合金を作るための純度、品質、均一性、化学的組成物の制御を高めることができる材料精製装置を提供する。【解決手段】 減圧チャンバー211内に多孔ガスディストリビュータ223,225を具える精製ステーション203,205,207,209を設け、ガス供給部213及び反応ガス供給部215から供給されたガスをディストリビュータ経由で材料に供給し、ガス通過時にヒーター227,229,231で材料を加熱溶融し、ドーパントがドーパントディストリビュータ245,247,249から加えられる。溶融材料はるつぼ209に受けられ、注型、結晶成長に利用される。なお一つのディストリビュータは円筒転倒可能に構成され、注型、結晶成長に利用される多数の並列ステーションで多数の材料をステーションまたはるつぼに受け入れ可能に構成できる。
請求項(抜粋):
超高純度材料を生産するための装置であって、減圧チャンバとそのチャンバからガスを減圧しそれを抜く減圧源を持つ第1ステーションと、チャンバ内の多孔ガスディストリビュータと、材料を多孔ガスディストリビュータに供給する材料供給源と、ガスをディストリビュータにまたディストリビュータを経て多孔ガスディストリビュータと接触する材料に供給するために多孔ガスディストリビュータに接続されるガス源と、ガスが材料を通過するにつれて材料を加熱するための多孔ガスディストリビュータに隣接するヒーターと、および処理された材料を第1ステーションから吐出する吐出部と、を含むことを特徴とする装置。
Fターム (2件):
4K001EA02 ,  4K001EA03
引用特許:
審査官引用 (1件)

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