特許
J-GLOBAL ID:200903035399452361

高純度三弗化窒素の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-091998
公開番号(公開出願番号):特開2002-284512
出願日: 2001年03月28日
公開日(公表日): 2002年10月03日
要約:
【要約】粗三弗化窒素を粗三弗化窒素以外の弗化窒素を除去する第1工程、酸性化合物を処理する第2工程、その他の不純物を有する第3工程の3つの工程で順次処理することで高純度三弗化窒素を製造する方法。【課題】高純度の三弗化窒素を効率的に製造する。【解決手段】3つの工程で順次処理する。
請求項(抜粋):
少なくとも三弗化窒素以外の弗化窒素、および酸性化合物を不純物として含有する粗三弗化窒素を、三弗化窒素以外の弗化窒素を除去する第1工程、酸性化合物を除去する第2工程、その他の不純物を除去する第三工程の3つの工程で粗三弗化窒素を順次処理することを特徴とする高純度三弗化窒素の製造方法。【請求項2】第1工程が加熱した触媒で処理する工程である請求項1に記載の方法。【請求項3】第2工程が水と接触処理し次いで脱水処理する工程である請求項1に記載の方法。【請求項4】第3工程が亜酸化窒素を吸着する吸着剤で処理する工程と深冷分離工程からなる工程である請求項1に記載の方法。【請求項5】第1、第2工程での粗三弗化窒素の移動を不活性ガスの流れで行なう請求項1に記載の方法。【請求項6】第2工程から第3工程に昇圧して三弗化窒素を移動する請求項1に記載の方法。
IPC (2件):
C01B 21/083 ,  F25J 3/08
FI (2件):
C01B 21/083 ,  F25J 3/08
Fターム (3件):
4D047AA07 ,  4D047AB00 ,  4D047BB03
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • 特開平2-030609
  • 特開平2-153809
  • 三弗化窒素ガスの深冷蒸留装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-121131   出願人:日産化学工業株式会社
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