特許
J-GLOBAL ID：200903035420240043
ビスマス化合物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-275859
公開番号（公開出願番号）：特開平9-121031
出願日： 1995年10月24日
公開日（公表日）： 1997年05月06日
要約：
【要約】【課題】 従来より熱処理温度を低下させてビスマス化合物を製造する方法を提供する。【解決手段】 減圧加熱して還元相を形成する工程と、常圧または常圧より低い酸化性雰囲気で加熱酸化する工程とを採ってビスマス化合物を製造する。
請求項（抜粋）：
減圧加熱して還元相を形成する工程と、常圧または常圧より低い酸化性雰囲気で加熱酸化する工程とを採ることを特徴とするビスマス化合物の製造方法。
IPC (6件)：
H01L 27/10 451
, C01G 35/00
, H01L 27/04
, H01L 21/822
, H01L 27/108
, H01L 21/8242
H01L 27/10 451
, C01G 35/00 C
, H01L 27/04 C
, H01L 27/10 651
