スパッタリング用ターゲット、その製造方法、そのターゲットを用いた光記録媒体及びその光記録媒体の製造方法

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：池浦敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-332532
公開番号（公開出願番号）：特開平8-022644
出願日： 1994年12月13日
公開日（公表日）： 1996年01月23日
要約：

【要約】【目的】従来に比べC/N、消去比、感度、記録.消去繰り返し特性の飛躍的向上を達成できる光記録媒体を提供する。【構成】記録を担う物質の相変化により記録消去を行う光記録媒体の記録層の構成元素を主としてAg、In、Te、Sbで、それぞれの組成比α、β、γ、δ(原子%)が、0<α≦300<β≦3010≦γ≦5010≦δ≦80α+β+γ+δ=100としたことを特徴とする光記録媒体。

請求項（抜粋）：

記録を担う物質の相変化により記録及び消去を行なう光記録媒体の記録層を作製する際に用いられ、構成元素が主にAg、In、Te、Sbであり、それぞれの組成比α、β、γ、δ(原子%)が、2≦α≦303≦β≦3010≦γ≦5015≦δ≦83α+β+γ+δ=100であることを特徴とするスパッタリング用ターゲット。

引用特許：

審査官引用 (12件)

相変化型光記録媒体
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-017703 出願人：株式会社リコー
光情報記録媒体
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-081094 出願人：株式会社リコー
光記録膜作製用高純度ターゲツトおよびその製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-224566 出願人：同和鉱業株式会社

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