特許

J-GLOBAL ID：200903035458215832

縮小投影露光装置において用いられる空間フィルタ

発明者： 杉原 孝志 ,  福島 隆史 ,  高木 悛公
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-201785
公開番号（公開出願番号）：特開平7-115059
出願日： 1994年08月26日
公開日（公表日）： 1995年05月02日
要約：

【要約】【目的】 光の波長の短縮化やレンズシステムの改善を必要とすることなく、種々の寸法や方向性を含むマスクパターンに関して投影露光装置の解像度と焦点深度を低コストで改善し得る空間フィルタを提供する。【構成】 縮小投影露光装置において用いられる空間フィルタは、所定の値以下の透過率で光を通過させる中央領域と、その中央領域を包囲しかつ実質的に透明な周辺領域(3)と、中央領域を通過した光と周辺領域を通過した光との間で実質的に180°の位相差を生じさせる手段(G1,G2)とを含んでいる。

請求項（抜粋）：

微細パターンを含むフォトマスクを照明するための照明光学系と、前記微細パターンを結像面上に縮小投影するための投影光学系とを備えた縮小投影露光装置において、前記照明光学系に含まれる照明ソース近傍に配置される空間フィルタであって、前記空間フィルタは、所定の値以下の透過率で光を通過させる中央領域と、前記中央領域を包囲しかつ実質的に透明な周辺領域と、前記中央領域を通過した光と前記周辺領域を通過した光との間で実質的に180°の位相差を生じさせる手段とを含んでいる空間フィルタ。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G02B 5/20 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 527

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-179114
  
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-201649   出願人：株式会社ニコン
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-152115   出願人：株式会社ニコン