特許
J-GLOBAL ID:200903035517771779

二相分配装置及びプロセス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 五十嵐 和壽
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-543114
公開番号(公開出願番号):特表2006-501995
出願日: 2003年10月02日
公開日(公表日): 2006年01月19日
要約:
下向きに容器を通って流れる蒸気と液体は、上記容器内に位置する水平分配トレイ(14)の向こう側に配置される複数の分配装置アセンブリ(1)内部で接触させられる。上記分配装置アセンブリは、少なくとも2つのサイズの蒸気取入口(4、5)を持つことなどによって、流体の流れに対して異なる抵抗を持つ流体流路(15、16)を有し、上記異なるサイズの取入口は、異なるアセンブリの上、または同じアセンブリの異なるアップフロー・チャネルの上に設置される。これによって、異なるアップフロー・チャネルに異なる蒸気の流速と液体の流速が提供される。本発明は、分配トレイ上の異なる高さの液面、あるいは上記反応器を通る蒸気及び/または液体の流速の変化にもかかわらず、上記容器の断面の向こう側へ液体を均一に分配することを向上させる。
請求項(抜粋):
容器の断面積を越えて下向きに流れる液体を均等に分配するための装置において、 前記容器内で、蒸気及び液体の前記下向きの流れが、前記蒸気及び液体を、間隔を置いて位置する開口部(12,36)を通ってトレイ(14,44)を通って流れさせる水平トレイ(14,44)によって妨げられ;前記トレイ(14,44)を通る間隔を置いて位置する開口部(12,36)が、分配装置(1)の壁部(3,21,33)の通路(4,5,37a,37b)を通って、分配装置(1)に位置するフロー・チャネル(15,16,35)を通って、そして、開口部(12,36)を通って、蒸気を流路へ進ませる分配装置(1)によって蓋をされ;そして、少なくとも2つの流路が、異なって構成され、蒸気の流れと液体の流れのうち少なくとも1つに対する異なる抵抗を提供することを特徴とする装置。
IPC (1件):
B01J 10/00
FI (1件):
B01J10/00 101
Fターム (11件):
4G075AA02 ,  4G075BA10 ,  4G075BB05 ,  4G075BD03 ,  4G075BD13 ,  4G075BD22 ,  4G075CA54 ,  4G075EB05 ,  4G075EC09 ,  4G075EE02 ,  4G075FA01
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 特公昭42-024284
  • 特公昭47-036628
  • 分散装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-183983   出願人:株式会社ジャパンエナジー
審査官引用 (3件)
  • 特公昭42-024284
  • 特公昭47-036628
  • 分散装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-183983   出願人:株式会社ジャパンエナジー

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