特許
J-GLOBAL ID：200903035537623423
2次元像形成のための入射光ビーム調整方法及びその装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山崎 行造 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-556271
公開番号（公開出願番号）：特表2002-519714
出願日： 1999年06月18日
公開日（公表日）： 2002年07月02日
要約：
【要約】2次元投影画像を形成するために入射光ビームを調整する装置及び方法。装置は、各々が反射面を有する複数の伸長した素子を含む。複数の伸長素子は、それらの支持された各端部により基板上に互いに平行に懸架されて、表示素子に応じてグループ分けされた隣接する反射面のカラムを形成する。一つおきの各グループは、基板に対して電圧を印加することにより変形可能である。各変形素子の概ね平坦な中央部分は、各非変形素子の中央部分に対して実質的に平行に且つ所定距離にある。隣接する反射面のカラムへの入射光ビームは、1つおきの伸長素子のグループが非変形状態のときは、その伸長素子のグループから反射し、且つ1つおきの伸長素子のグループが変形状態のときは回折する。移動距離を制御するか、或いは反射期間と回折期間との間の比が、対応する表示素子の表示強度を決定する。
請求項（抜粋）：
波長を有する入射光ビームを調整するモジュレータであって、 a.複数の伸長した素子であり、各々が二つの端部の間に配置された概ね平坦な反射面を有し、互いに平行に配置されて且つ基板上にそれらの素子の端部により懸架されている伸長素子と、 b.前記伸長素子の選択された1つを前記基板へ向かって変形させて変形状態にさせる手段とを備え、その変形状態においては、選択された伸長素子の各々の前記概ね平坦な反射面が、前記選択された伸長素子を前記基板へ接触させることなく、格子振幅により前記基板へ向かって移動するモジュレータ。
Fターム (6件)：
2H041AA11
, 2H041AB14
, 2H041AC06
, 2H041AZ00
, 2H041AZ05
, 2H041AZ08
