特許
J-GLOBAL ID：200903035544587483
有機ELパネルの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-023143
公開番号（公開出願番号）：特開2004-235048
出願日： 2003年01月31日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：
【課題】加熱脱水処理後の有機EL素子の構成部材への水分の再吸着を抑制し、十分な脱水効果を得ることが可能な有機ELパネルの製造方法を提供する。【解決手段】有機ELパネル1は、所定の形状に形成された第一電極(透明電極)4と、絶縁層5と、少なくとも発光層を有する有機層7と、第二電極(背面電極)8と、を透光性の支持基板2上に順次積層形成してなる。有機ELパネル1の製造方法は、少なくとも絶縁層5形成後に、低露点雰囲気下にて支持基板2を加熱して加熱脱水処理を行う工程と、前記加熱脱水処理後に前記加熱脱水処理によって前記低露点雰囲気中に生じた水分を除去してあるいは除去しながら支持基板2の温度を下げる降温処理を行う工程と、を含む。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
所定の形状に形成された第一電極と、絶縁層と、少なくとも発光層を有する有機層と、第二電極と、を透光性の支持基板上に順次積層形成してなる有機ELパネルの製造方法であって、少なくとも前記絶縁層形成後に、低露点雰囲気下にて前記支持基板を加熱して加熱脱水処理を行う工程と、前記加熱脱水処理後に前記加熱脱水処理によって前記低露点雰囲気中に生じた水分を除去してあるいは除去しながら前記支持基板の温度を下げる降温処理を行う工程と、を含むことを特徴とする有機ELパネルの製造方法。
IPC (4件)：
H05B33/10
, H05B33/12
, H05B33/14
, H05B33/22
H05B33/10
, H05B33/12 B
, H05B33/14 A
, H05B33/22 Z
3K007AB13
, 3K007BA06
, 3K007CA01
, 3K007CB01
, 3K007DB03
, 3K007EA00
, 3K007FA03
