特許
J-GLOBAL ID:200903035580857144

離型フィルム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 曉司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-062932
公開番号(公開出願番号):特開2001-246698
出願日: 2000年03月08日
公開日(公表日): 2001年09月11日
要約:
【要約】【課題】 オリゴマー析出量が極力少なく、離型層中の例えばシリコーン成分の移行が少ない、液晶偏光板、位相差板等の粘着剤層保護用、セラミック離型用等、各種離型用途に有用なフィルムを提供する。【解決手段】 ポリエステルフィルムの片面に塗布層、残留接着率が80%以上の離型層が順次設けられてなる離型フィルムであって、前記塗布層または離型層の少なくとも一方はアミノ基を有する化合物を含有し、下記式(1)および(2)を同時に満足することを特徴とする離型フィルム。OL≦3.0(mg/m2) ...(1)N×Wf≧0.5(mg/m2) ...(2)(上記式中、OLは180°C、10分間熱処理後の離型フィルムの離型層表面からジメチルホルムアミドにより抽出されるオリゴマー量、Nは離型フィルムからケルダール分解を経てインドフェノール青吸光度法により検出される窒素含有量(ppm)、Wfは離型フィルムの単位面積当たりの重量(mg/m2)を表す)
請求項(抜粋):
ポリエステルフィルムの片面に塗布層、残留接着率が80%以上の離型層が順次設けられてなる離型フィルムであって、前記塗布層または離型層の少なくとも一方はアミノ基を有する化合物を含有し、下記式(1)および(2)を同時に満足することを特徴とする離型フィルム。OL≦3.0 ...(1)N×Wf≧0.5 ...(2)(上記式中、OLは180°C、10分間熱処理後の離型フィルムの離型層表面からジメチルホルムアミドにより抽出されるオリゴマー量(mg/m2)、Nは離型フィルムからケルダール分解を経てインドフェノール青吸光度法により検出される窒素含有量(ppm)、Wfは離型フィルムの単位面積当たりの重量(mg/m2)を表す)
IPC (4件):
B32B 27/00 ,  B32B 27/36 ,  C09D 5/20 ,  C09D183/08
FI (4件):
B32B 27/00 L ,  B32B 27/36 ,  C09D 5/20 ,  C09D183/08
Fターム (22件):
4F100AH02B ,  4F100AH03B ,  4F100AH06B ,  4F100AK41A ,  4F100AK52B ,  4F100BA02 ,  4F100CA02 ,  4F100CA02B ,  4F100EH46B ,  4F100GB90 ,  4F100JB08 ,  4F100JB12B ,  4F100JK06B ,  4F100JL14B ,  4F100YY00 ,  4F100YY00B ,  4J038DL081 ,  4J038GA09 ,  4J038NA10 ,  4J038PB03 ,  4J038PB09 ,  4J038PC08
引用特許:
審査官引用 (5件)
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