特許

J-GLOBAL ID：200903035656898562

基板洗浄装置、基板洗浄具及び基板洗浄方法

発明者： 森田 彰彦 ,  大谷 正美 ,  平岡 伸康
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 松本 武彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-205622
公開番号（公開出願番号）：特開平8-069989
出願日： 1994年08月30日
公開日（公表日）： 1996年03月12日
要約：

【要約】【目的】 洗浄液を洗浄具の下面全面に行き渡らせることができ、良好な洗浄効率で基板を良好に洗浄できる基板洗浄装置、基板洗浄具並びに基板洗浄方法を提供する。【構成】 洗浄具10の洗浄部材26には、平坦な下端面26aとそこに連接する側面26bとが形成され、回転軸16により回転駆動される。洗浄部材26の下端面26aには溝状凹部24が形成され、溝状凹部24の端部は側面26bに開口している。溝状凹部24は、側面26bでの開口部における溝状凹部24の向きが、洗浄具10の回転半径方向に対して傾斜している。洗浄部材26の下端面26aが基板と接触した状態で洗浄が行われる。

請求項（抜粋）：

基板を鉛直軸まわりで回転させつつ基板表面に洗浄液を供給し、洗浄具を鉛直軸まわりで回転させながら洗浄具の下端面を基板表面にそって移動させて基板表面を洗浄する基板洗浄装置において、前記洗浄具に、平坦な下端面と該下端面に連接した側面とを形成し、前記下端面に溝状凹部を形成するとともに、該溝状凹部の端部を前記側面に開口させたことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-131526
  
• 特開昭56-013727
  
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-148938   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-032515   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社