薄膜パターンの形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：奥田誠司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-169476
公開番号（公開出願番号）：特開2004-013042
出願日： 2002年06月11日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：

【課題】LB膜や自己組織化膜からなる有機分子薄膜のパターンを容易に形成する方法を提供する。【解決手段】基板11表面に酸化チタン膜12を形成し、酸化チタン膜12上にLB膜や自己組織化膜からなる有機分子薄膜13を形成する。マスクを用い、酸化チタン膜12の表面にまで達するように、紫外線を有機分子薄膜13の表面に照射することによって、紫外線が照射した領域13dにある有機分子薄膜13の有機分子を分解する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板の表面上に酸化チタン膜を形成する工程と、前記酸化チタン膜の表面に有機分子からなる有機分子薄膜を形成する工程と、前記有機分子薄膜と接している前記酸化チタン膜の表面に所定の露光領域が形成されるように基板に対して紫外線を選択的に照射し、前記酸化チタン膜の露光領域に接している前記有機分子薄膜の前記有機分子を分解する工程と、を包含する薄膜パターンの形成方法。

IPC (5件)：

G03F7/039 , G03F7/075 , G03F7/11 , G03F7/40 , H01L21/027

FI (5件)：

G03F7/039 501 , G03F7/075 501 , G03F7/11 503 , G03F7/40 521 , H01L21/30 502R

Fターム (20件)：

2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BF29 , 2H025BF30 , 2H025DA40 , 2H025EA07 , 2H025FA03 , 2H025FA14 , 2H025FA39 , 2H096AA25 , 2H096BA09 , 2H096BA20 , 2H096CA05 , 2H096CA18 , 2H096EA02 , 2H096GA02 , 2H096HA02 , 2H096HA27 , 2H096JA04

引用特許：

審査官引用 (6件)

平版印刷方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-299569 出願人：富士写真フイルム株式会社
パターン形成体およびパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-165392 出願人：大日本印刷株式会社
光触媒体を用いた画像形成材料および画像形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-091206 出願人：共同印刷株式会社, 中島章, 渡部俊也, 橋本和仁, 藤嶋昭

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