パターン形成体およびパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：米澤明 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-165392
公開番号（公開出願番号）：特開平11-344804
出願日： 1998年06月12日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
要約：

【要約】【課題】光触媒を使用したパターン形成体を提供する。【解決手段】基体上に光触媒含有層を有し、光触媒含有層は、パターンの露光によって光触媒の作用によって濡れ性が変化する物質を含有する層、光触媒含有層上に、パターンの露光によって光触媒の作用によって濡れ性が変化する物質の含有層、基材上に光触媒含有層を有し光触媒含有層上にパターンの露光によって光触媒の作用により分解除去される層を有するか、もしくは基材上に、光触媒、パターンの露光によって光触媒の作用により分解される物質、および結着剤からなる組成物層を有し、露光によって濡れ性を変化させることによってパターンを記録するパターン形成体。

請求項（抜粋）：

光学的にパターンを形成するパターン形成体において、基材上に光触媒含有層を有し、光触媒含有層は、パターンの露光によって光触媒の作用により濡れ性が変化する物質を含有することを特徴とするパターン形成体。

IPC (5件)：

G03F 7/004 521 , B41C 1/10 , C09D183/08 , G03F 7/00 501 , G03F 7/075 511

FI (5件)：

G03F 7/004 521 , B41C 1/10 , C09D183/08 , G03F 7/00 501 , G03F 7/075 511

引用特許：

出願人引用 (8件)

特公昭49-012282
画像形成装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-289584 出願人：富士ゼロックス株式会社
特開昭57-173996

全件表示

審査官引用 (18件)

特公昭49-012282
有機ケイ素高分子材料及び着色部材の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-015639 出願人：株式会社東芝
画像形成装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-289584 出願人：富士ゼロックス株式会社

全件表示

前のページに戻る