特許
J-GLOBAL ID:200903035673051603

高分子成型体の表面改質方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-290734
公開番号(公開出願番号):特開平7-138394
出願日: 1993年11月19日
公開日(公表日): 1995年05月30日
要約:
【要約】【目的】 グラフト鎖が高い効率で安定に基材表面に導入された表面改質高分子成型体および高分子成型体の表面改質方法を提供する。【構成】 カルボキシル基、アミノ基、イミノ基、スルホン酸基、リン酸基のうち少なくとも1種の官能基を、分子内に少なくとも1個以上有し、分子量が50〜40000であるような物質をグラフト鎖として高分子成型体表面に放射線照射によって導入する際、グラフト鎖となるべき物質と反対の電荷を有する物質を添加剤として加えることを特徴とする表面改質高分子成型体および高分子成型体の表面改質方法。
請求項(抜粋):
高分子成型体表面に電荷を帯びたグラフト鎖を放射線照射によって導入する際、グラフト鎖となるべき物質と反対の電荷を有する物質を添加剤として加えることを特徴とする高分子成型体の表面改質方法。
IPC (3件):
C08J 7/18 ,  C08J 7/00 305 ,  C08L101:00
引用特許:
審査官引用 (2件)

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