特許
J-GLOBAL ID:200903035708714643

円筒基体の浸漬塗布方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡部 剛 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-131720
公開番号(公開出願番号):特開平9-299867
出願日: 1996年05月27日
公開日(公表日): 1997年11月25日
要約:
【要約】【課題】 単一塗布槽により複数の円筒基体に浸漬塗布を施す方法の提供。【解決手段】 塗布液がオーバーフローしている塗布槽1に複数の円筒基体6を浸漬して塗布する方法において、浸漬した円筒基体6を塗布液2中から引き上げる際に、塗布槽からの塗布液のオーバーフローが停止する量の塗布液を供給しながら塗布を行うか、または、浸漬した円筒基体を塗布液中から引き上げる際に、塗布槽への塗布液の供給を停止させ、円筒基体を塗布液中から引き上げるときの引上げ速度を変化させる。円筒基体としては、感光ドラム用基体または現像スリーブ用基体等が使用される。
請求項(抜粋):
塗布液がオーバーフローしている塗布槽に複数の円筒基体を浸漬して塗布する円筒基体の浸漬塗布方法において、浸漬した円筒基体を塗布液中から引き上げる際に、塗布槽からの塗布液のオーバーフローが停止する量の塗布液を供給しながら塗布を行うことを特徴とする円筒基体の浸漬塗布方法。
IPC (4件):
B05D 1/18 ,  B05D 3/00 ,  B05D 7/00 ,  G03G 5/05 102
FI (4件):
B05D 1/18 ,  B05D 3/00 B ,  B05D 7/00 K ,  G03G 5/05 102
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • 記録媒体の塗布装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-274750   出願人:株式会社リコー
  • 塗布装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-054435   出願人:富士電機株式会社
  • 特開平2-173754
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