ステージ装置及び露光装置並びにデバイスの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：恩田博宣 , 恩田誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-428418
公開番号（公開出願番号）：特開2005-191150
出願日： 2003年12月24日
公開日（公表日）： 2005年07月14日
要約：

【課題】移動体の位置を精度よく計測可能なステージ装置、微細なパターンを精度よく露光可能な露光装置、高集積度のデバイスを歩留まりよく製造可能なデバイスの製造方法を提供する。【解決手段】ウエハステージに取着される第1反射鏡41aを、1つの第1フレクシャ部46と、3つの第2フレクシャ部47a,47bと、2つの第3フレクシャ部48とで、ウエハステージに対して支持する。第1〜第3フレクシャ部46,47a,47b,48には、それぞれ両端が第1反射鏡41aまたはウエハステージに対して回転可能に連結されたロッド51,61,68,75を一本ずつ設け、合計6本のロッド51,61,68,75で第1反射鏡をウエハステージに対してキネマティックに支持する。【選択図】図9

請求項（抜粋）：

載置物を載置するとともに、少なくとも一方向に移動可能な移動体と、その移動体に取着され、反射面を備える反射部材と、前記反射面に対して所定の計測光を投射するとともに、前記反射面で反射された計測光を受光して前記移動体の位置を計測する位置計測装置とを有するステージ装置において、前記移動体に前記反射部材を取り付けるとともに、前記移動体の移動に起因して発生する変形を低減するフレクシャ機構を備えることを特徴とするステージ装置。

IPC (5件)：

H01L21/027 , G01B9/02 , G01B11/00 , G03F7/20 , H01L21/68

FI (5件)：

H01L21/30 515G , G01B9/02 , G01B11/00 G , G03F7/20 521 , H01L21/68 K

Fターム (30件)：

2F064AA01 , 2F064BB01 , 2F064CC10 , 2F064DD02 , 2F064KK01 , 2F065AA01 , 2F065AA06 , 2F065AA09 , 2F065CC17 , 2F065FF51 , 2F065GG04 , 2F065HH03 , 2F065HH13 , 2F065JJ05 , 2F065JJ09 , 2F065LL12 , 2F065MM03 , 2F065PP12 , 2F065PP22 , 2F065UU03 , 5F031CA02 , 5F031HA53 , 5F031JA06 , 5F031MA27 , 5F031PA11 , 5F031PA30 , 5F046CC01 , 5F046CC13 , 5F046CC16 , 5F046CC17

引用特許：

出願人引用 (1件)

移動鏡支持機構
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-221753 出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (9件)

特開平4-121604
特開平4-121604
位置決め装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-053395 出願人：株式会社日立製作所

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