特許
J-GLOBAL ID:200903035788524475
ラジカル成分の供給方法及びその装置、環境有害物質の無害化方法及びその装置,物体の表面を清浄化もしくは改質する方法及びその装置並びに化学反応方法及びその装置
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
志賀 正武
, 渡邊 隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-309062
公開番号(公開出願番号):特開2005-077004
出願日: 2003年09月01日
公開日(公表日): 2005年03月24日
要約:
【課題】 燃焼炎中に含まれる高活性ラジカル成分を利用して、有害物の分解、物体表面の清浄化、物体表面の改質を行う。【解決手段】 酸水素燃焼炎を被処理流体に吹き付け、燃焼炎中に含まれる高活性ラジカル成分を供給し、被処理流体中に含まれる難分解性の有機物を分解したり、物体表面を清浄化したり、物体表面の改質を行う。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
水素を燃料とし、酸素を酸化剤とする燃焼炎を形成し、該燃焼炎をマイクロチャンネルもしくは先端に多数の細孔を有するバーナーを通して流体に吹き付けて接触させることを特徴とする燃焼炎中のラジカル成分の供給方法。
IPC (6件):
F23D14/32
, A62D3/00
, B01J19/00
, C07D319/24
, F23C11/00
, F23D14/56
FI (8件):
F23D14/32
, A62D3/00 370
, A62D3/00 651
, A62D3/00 654
, B01J19/00 321
, C07D319/24
, F23C11/00 310
, F23D14/56 Z
Fターム (31件):
2E191BA12
, 2E191BA13
, 2E191BC01
, 2E191BD11
, 3K017CD08
, 3K017CF03
, 3K017CG01
, 3K017CH00
, 3K065TA06
, 3K065TB02
, 3K065TB07
, 3K065TE06
, 3K065TG02
, 3K065TH05
, 4G075AA03
, 4G075AA05
, 4G075AA13
, 4G075AA30
, 4G075AA62
, 4G075BA05
, 4G075BA06
, 4G075BD12
, 4G075BD13
, 4G075BD14
, 4G075BD24
, 4G075BD27
, 4G075CA45
, 4G075DA01
, 4G075EC02
, 4G075FA02
, 4G075FC06
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
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排ガス処理用燃焼器
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-316521
出願人:株式会社荏原製作所
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マイクロトーチの先端形状
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-162324
出願人:東京特殊電線株式会社
-
水素表面燃焼バーナ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-179501
出願人:岩谷産業株式会社
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