特許
J-GLOBAL ID:200903035791048404

液晶セルの製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 樺澤 襄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-122451
公開番号(公開出願番号):特開平8-313918
出願日: 1995年05月22日
公開日(公表日): 1996年11月29日
要約:
【要約】【目的】 基板1の表面の塗布パターン上での凹凸に対応してUV硬化剤の塗布形状を均一にする。【構成】 ステージ15上の液晶セルの基板1の表面にUV硬化剤を塗布する塗布手段20を設ける。基板1との距離を測定する測定手段25を設ける。ステージ15と塗布手段20、およびステージ15と測定手段25とを相対的に基板1に垂直な方向および平行な方向に移動させる移動手段26を設ける。移動手段26を制御する制御手段を備える。制御手段は、測定手段25を液晶セルの基板1の表面への塗布パターンに沿って移動させて表面形状を測定させ、測定結果に基づき塗布手段20を基板1との距離を一定に保ちながら塗布パターンに沿って移動させてUV硬化剤を塗布させる。
請求項(抜粋):
液晶セルの基板を搭載するステージと、このステージ上の液晶セルの基板表面にUV硬化剤を塗布する塗布手段と、前記液晶セルの基板表面との距離を測定する測定手段と、前記ステージと塗布手段、およびステージと測定手段とを相対的に前記液晶セルの基板表面に垂直な方向および平行な方向に移動させる移動手段と、この移動手段を制御し、前記測定手段を液晶セルの基板表面への塗布パターンに沿って移動させて表面形状を測定させるとともに、測定結果に基づき前記塗布手段を液晶セルの基板表面との距離を一定に保ちながら塗布パターンに沿って移動させてUV硬化剤を塗布させる制御手段とを具備していることを特徴とする液晶セルの製造装置。
IPC (2件):
G02F 1/1339 505 ,  G02F 1/13 101
FI (2件):
G02F 1/1339 505 ,  G02F 1/13 101
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • 特開昭63-175667
  • 特開昭63-250622
  • 特開平2-198417
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