特許
J-GLOBAL ID:200903035796420972

MEMSスイッチ及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 山田 卓二 ,  田中 光雄 ,  竹内 三喜夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-171755
公開番号(公開出願番号):特開2009-009884
出願日: 2007年06月29日
公開日(公表日): 2009年01月15日
要約:
【課題】スイッチング特性と信頼性を向上させるMEMSスイッチの製造方法、及びMEMSスイッチを提供することを目的とする。【解決手段】MEMSスイッチを構成する可動電極5と吸引電極4との間に設けられる犠牲層を、互いに異種材料にてなる第1犠牲層8及び第2犠牲層9にて分割形成すると共に、両者が重なり合う領域を設ける。【選択図】図2
請求項(抜粋):
基板上に形成されそれぞれ隙間を介して配列された第1電極、吸引電極、及び第2電極と、上記第1電極に支持されたカンチレバー状で可撓性であり上記吸引電極にて駆動されて上記第2電極とスイッチングを行う可動電極とを備えたMEMSスイッチの製造方法において、 上記第1電極、上記吸引電極、及び上記第2電極を上記基板に形成した後、上記第2電極の少なくとも一部分上に第1犠牲層を形成し、 上記第1犠牲層の形成後、第2犠牲層を上記吸引電極上及び上記第1犠牲層の少なくとも一部分上に形成し、 上記第2犠牲層の形成後、上記第1犠牲層及び上記第2犠牲層を覆って上記可動電極を形成した後、上記第1犠牲層及び上記第2犠牲層を順次除去して当該MEMSスイッチを形成する、 ことを特徴とするMEMSスイッチの製造方法。
IPC (4件):
H01H 49/00 ,  H01H 59/00 ,  B81C 1/00 ,  B81B 3/00
FI (4件):
H01H49/00 L ,  H01H59/00 ,  B81C1/00 ,  B81B3/00
Fターム (12件):
3C081AA02 ,  3C081BA43 ,  3C081BA48 ,  3C081BA53 ,  3C081CA03 ,  3C081CA14 ,  3C081CA23 ,  3C081CA28 ,  3C081CA29 ,  3C081DA03 ,  3C081DA27 ,  3C081DA45
引用特許:
出願人引用 (1件)

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