特許

J-GLOBAL ID：200903035801295936

組成物、該組成物を用いた画像形成方法及び導電性パターンの形成方法

発明者： 須田 栄 ,  佐藤 公一 ,  丸山 朋子 ,  中澤 郁郎 ,  東 隆司 ,  池上 正幸 ,  椿 圭一郎 ,  山岸 恵子
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-132955
公開番号（公開出願番号）：特開2006-249399
出願日： 2005年04月28日
公開日（公表日）： 2006年09月21日
要約：

【課題】 分散性が安定し、画像形成に適した組成物および導電性パターンの形成方法を提供する。【解決手段】 導電性物質と、ポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体と、溶媒とを含有する組成物。導電性物質を内包するブロック共重合体と、溶媒と、を含有する組成物。導電性物質は、金属微粒子、またはフラーレン、カーボンナノチューブ、P型半導体有機物質もしくはN型半導体有機物質から選択しされる有機導電性物質である。導電性物質と、ポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体と、溶媒とを含有する組成物をインクジェット法により基板上に付与して導電性パターンを形成する導電性パターンの形成方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

導電性物質と、ポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体と、溶媒とを含有することを特徴とする組成物。

IPC (6件)：

C08L 53/00 ,  C08K 3/08 ,  C08K 5/00 ,  C09D 11/00 ,  H05K 3/10 ,  B41J 2/01

FI (6件)：

C08L53/00 ,  C08K3/08 ,  C08K5/00 ,  C09D11/00 ,  H05K3/10 D ,  B41J3/04 101Y

Fターム (45件)：

2C056EA06 ,  2C056EA21 ,  2C056FB05 ,  2C056FC01 ,  2C056FD10 ,  4J002BM002 ,  4J002BP031 ,  4J002CE002 ,  4J002DA016 ,  4J002DA076 ,  4J002DA086 ,  4J002DA096 ,  4J002DA106 ,  4J002DA116 ,  4J002EA016 ,  4J002EA046 ,  4J002EC076 ,  4J002EE046 ,  4J002EG046 ,  4J002FD112 ,  4J002FD116 ,  4J002GH00 ,  4J002GS00 ,  4J039AD06 ,  4J039AD17 ,  4J039BA02 ,  4J039BA03 ,  4J039BA06 ,  4J039BA31 ,  4J039BA32 ,  4J039BA33 ,  4J039BA35 ,  4J039BA36 ,  4J039BA37 ,  4J039BA38 ,  4J039BE29 ,  4J039EA24 ,  4J039GA24 ,  5E343AA02 ,  5E343BB23 ,  5E343BB24 ,  5E343BB25 ,  5E343BB72 ,  5E343DD12 ,  5E343GG06

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 貴金属又は銅の固体ゾル及び製造方法並びに塗料組成物及び樹脂成型物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-138918   出願人：日本ペイント株式会社
• マイクロセンサーデバイス作成方法及びそれを用いた液体機能評価方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-266225   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 配線パターンの形成方法、回路基板の製造方法および遮光パターンの形成された透光体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-326114   出願人：森村ケミカル株式会社