特許

J-GLOBAL ID：200903035810780014

フォトマスク及びフォトレジストパターンの製造方法

発明者： 石井 弘二
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 宮越 典明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-230680
公開番号（公開出願番号）：特開2000-066371
出願日： 1998年08月17日
公開日（公表日）： 2000年03月03日
要約：

【要約】【課題】フォトレジストパターンの出来上がり形状の歪みを防止する。【解決手段】 正方形あるいは長方形のフォトレジストパターンを形成する際、向かい合う二辺の間隔の変動量を、フォトマスク上の対応するパターンに予め補正を加える。

請求項（抜粋）：

正方形あるいは長方形のフォトレジストパターンを形成するために用いるフォトマスク上のパターンにおいて、前記フォトレジストパターンの向かい合う二辺に対応する前記フォトマスク上の二辺の間隔が、該二辺の端部あるいは端部近傍から辺の中央部あるいは中央部近傍に向かって、変化していることを特徴とするフォトマスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/08 D ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (2件)：

2H095BB02 ,  2H095BB36

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-147546
  
• 特開平1-302256
  
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-291837   出願人：株式会社ニコン