特許
J-GLOBAL ID：200903044890090357

投影露光装置

発明者：
松本 宏一

松本 宏一 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-291837
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142361
出願日： 1993年11月22日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：
【要約】【目的】 従来技術よりも深い焦点深度で孤立的なパターンを感光基板上に投影露光する。【構成】 幅L2角の正方形の開口パターン32内で、幅L1角の正方形の領域33とそれ以外の領域34とで位相反転を行うフォトマスクのパターン像を露光する投影光学系の瞳面付近に、半径R2の円形の領域18と内半径R2で外半径R1の輪帯状の領域19とで位相反転を行う瞳フィルタ16を設置する。各パラメータを、次の範囲に設定する。1.4<L2/L1<1.6 (1)0.4<(R2/R1)<SP>2 </SP><0.6 (2)
請求項（抜粋）：
開口パターン内の第1のパターン領域及び残りの第2のパターン領域を通過する照明光の間の位相を反転させる位相部材が形成されたフォトマスクを照明する照明光学系と、前記フォトマスクのパターンの像を感光基板上に投影露光する投影光学系とを有する投影露光装置であって、前記投影光学系の瞳面又は該瞳面の近傍の所定の面上に、前記フォトマスクの開口パターン内で位相が異なる部分の間の面積比に応じた面積比で第1の光束通過領域及び第2の光束通過領域を設定し、前記所定の面上に前記第1の光束通過領域及び第2の光束通過領域を通過する結像光束間の位相を反転する瞳フィルタを配置したことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521
FI (2件)：
H01L 21/30 528 ,  H01L 21/30 515 B
引用特許：
審査官引用 (7件)
  • パターン形成方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-219532   出願人：株式会社日立製作所
  • 投影露光の最適化方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-191845   出願人：日本電信電話株式会社
  • 露光方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-174160   出願人：株式会社ニコン
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