特許
J-GLOBAL ID：200903035837561772
パターン照合装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-107244
公開番号（公開出願番号）：特開平9-022406
出願日： 1996年04月26日
公開日（公表日）： 1997年01月21日
要約：
【要約】【課題】 照合精度を高め、安価とする。【解決手段】 照合指紋の画像データ(図1(e))に2次元離散的フーリエ変換(DFT)を施して照合フーリエ画像データを作成する(図1(f))。この照合フーリエ画像データと同様の処理を施して作成されている登録指紋の登録フーリエ画像データ(図1(b))とを合成し、この合成フーリエ画像データ(図1(d))に対して振幅抑制処理(log処理)を行ったうえ、DFTを施す。このDFTの施された合成フーリエ画像データ(図1(h))に出現する相関成分エリアS0よりその相関成分の強度の高い上位n画素を抽出し、この抽出したn画素の相関成分の強度の平均を相関値としてしきい値と比較する。相関値がしきい値よりも高ければ登録指紋と照合指紋とは一致したと判断する。
請求項（抜粋）：
登録パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フーリエ変換を施して登録フーリエN次元パターンデータを作成する登録フーリエパターンデータ作成手段と、照合パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フーリエ変換を施して照合フーリエN次元パターンデータを作成する照合フーリエパターンデータ作成手段と、前記登録フーリエN次元パターンデータと前記照合フーリエN次元パターンデータとを合成し、これによって得られる合成フーリエN次元パターンデータに対して振幅抑制処理を行ったうえN次元離散的フーリエ変換を施すパターン処理手段と、このパターン処理手段によってN次元離散的フーリエ変換の施された合成フーリエN次元パターンデータに出現する相関成分エリアのN次元パターンデータを構成する個々のデータ毎の相関成分の強度に基づいて前記登録パターンと前記照合パターンとの照合を行うパターン照合手段とを備えたことを特徴とするパターン照合装置。
IPC (2件)：
FI (5件)：
G06F 15/332 A
, G06F 15/62 460
, G06F 15/62 465 U
, G06F 15/70 460 A
, G06F 15/70 460 B
