特許
J-GLOBAL ID：200903035851220740
基板洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-271072
公開番号（公開出願番号）：特開2008-091637
出願日： 2006年10月02日
公開日（公表日）： 2008年04月17日
要約：
【課題】安価かつ簡易に、被処理基板上の水滴を残さずに洗浄することができる基板洗浄方法を提供すること。【解決手段】被処理基板(11)の上方のノズル(12)から洗浄液(13)を吐出し、前記基板を回転させながら前記基板を洗浄する基板洗浄方法であり、前記ノズルから前記洗浄液を前記基板に吐出しながら、前記ノズルを前記基板の中心から前記基板の外側へ走査し、前記基板上の残留水滴を吸着させながら前記洗浄液を前記基板の外側に散逸させる基板洗浄方法において、前記ノズルから吐出した前記洗浄液が前記基板の回転に則って前記基板上を移動しながら散逸する際に、回転する前記基板上に滞留した前記洗浄液が前記ノズルから吐出した前記洗浄液と衝突しないように、前記洗浄液の流量、前記基板の回転数、前記ノズルの走査速度と走査開始位置を制御する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被処理基板の上方のノズルから洗浄液を吐出し、前記基板を回転させながら前記基板を洗浄する基板洗浄方法であり、前記ノズルから前記洗浄液を前記基板に吐出しながら、前記ノズルを前記基板の中心から前記基板の外側へ走査し、前記基板上の残留水滴を吸着させながら前記洗浄液を前記基板の外側に散逸させる基板洗浄方法において、
前記ノズルから吐出した前記洗浄液が前記基板の回転に則って前記基板上を移動しながら散逸する際に、回転する前記基板上に滞留した前記洗浄液が前記ノズルから吐出した前記洗浄液と衝突しないように、前記洗浄液の流量、前記基板の回転数、前記ノズルの走査速度と走査開始位置を制御することを特徴とする基板洗浄方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304
, H01L 21/027
H01L21/304 648G
, H01L21/304 643A
, H01L21/30 569F
