特許
J-GLOBAL ID：200903009287985978

リソグラフィー装置およびパターン形成方法

発明者：
柴田 剛

柴田 剛 について

, 
伊藤 信一

伊藤 信一 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-201011
公開番号（公開出願番号）：特開2006-024715
出願日： 2004年07月07日
公開日（公表日）： 2006年01月26日
要約：
【課題】 装置内でのウエハの搬送に伴うウエハの温度の変動を抑制できる、液浸型の露光装置を用いたリソグラフィー装置を提供すること。【解決手段】 リソグラフィー装置は、レジスト処理装置1と、液浸型の露光装置2と、レジスト処理装置1および露光装置2に連結され、レジスト処理装置1と露光装置2との間におけるウエハ5の搬送を行うための搬送装置3と、露光装置2内の温度および湿度に基づいて、搬送装置3の内部の温度および湿度を制御する温湿度制御ユニット4とを備えている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被処理基板上にレジストを塗布する処理、前記被処理基板上に形成されたレジスト膜を加熱する処理、および、前記被処理基板上に形成されたレジスト膜を現像する処理を行うレジスト処理装置と、 フォトマスク上に形成されたパターンの像を、前記被処理基板上に形成された前記レジスト膜上に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系と前記レジスト膜との間の光路中に位置する液体を介して露光を行う液浸型の露光装置と、 前記レジスト処理装置および前記液浸型の露光装置に連結され、前記レジスト処理装置と前記液浸型の露光装置との間における前記被処理基板の搬送を行うための搬送装置と、 前記液浸型の露光装置内の温度および湿度の少なくとも一方に基づいて、前記レジスト処理装置および前記搬送装置の少なくとも一方の内部の温度および湿度の少なくとも一方を制御する温湿度制御手段と を具備してなることを特徴とするリソグラフィー装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (4件)：
H01L21/30 514D ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 514E ,  H01L21/30 516E
Fターム (21件)：
5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031NA09 ,  5F031NA20 ,  5F046AA17 ,  5F046BA04 ,  5F046CB01 ,  5F046CD01 ,  5F046CD04 ,  5F046CD05 ,  5F046CD10 ,  5F046DA26 ,  5F046DB02 ,  5F046DC10
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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