特許
J-GLOBAL ID：200903035858343589
走査型電子顕微鏡用撮像レシピ作成装置及びその方法並びに半導体パターンの形状評価装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人 日東国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-174559
公開番号（公開出願番号）：特開2006-351746
出願日： 2005年06月15日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：
【課題】SEM装置等において、観察画像からパターンの配線幅などの各種寸法値を計測してパターン形状の評価を行うための撮像レシピを、CADデータから変換されたCAD画像を用いた解析により自動生成して生成時間の短縮を図った撮像レシピ作成装置及びその方法を提供する。【解決手段】走査型電子顕微鏡を用いて半導体パターンをSEM観察するための撮像レシピ作成装置において、CADデータを基に画像に変換してCAD画像を作成するCPU(CAD画像作成部)1251を、画像量子化幅決定処理部12511と明度情報付与処理部12512とパターン形状変形処理部12513とで構成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
走査型電子顕微鏡を用いて半導体パターンをSEM観察するための撮像レシピを作成する撮像レシピ作成装置であって、
前記半導体パターンのレイアウト情報が記述されたCADデータを入力して記憶したCADデータファイルと、
該CADデータファイルに記憶したCADデータを基に画像に変換してCAD画像を作成するCAD画像作成部とを有し、
該CAD画像作成部で作成されたCAD画像を用いて前記撮像レシピを作成するように構成したことを特徴とする走査型電子顕微鏡用撮像レシピ作成装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (18件)：
2F067AA06
, 2F067AA26
, 2F067AA45
, 2F067CC17
, 2F067GG06
, 2F067HH06
, 2F067JJ05
, 2F067KK04
, 2F067KK08
, 2F067PP12
, 2F067RR35
, 4M106AA01
, 4M106AA02
, 4M106BA02
, 4M106CA39
, 4M106DB05
, 4M106DB30
, 4M106DJ15
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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