特許
J-GLOBAL ID:200903035918732318

基板把持装置及び研磨装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡邉 勇 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-045454
公開番号(公開出願番号):特開2000-246628
出願日: 1999年02月23日
公開日(公表日): 2000年09月12日
要約:
【要約】【課題】 基板の背圧や研磨境界面の温度の制御を、比較的簡単な構成でより厳密に行うことができるような基板把持装置を提供する。【解決手段】 基板保持面を有する把持板12を備え、該基板保持面に基板Wを保持して基板Wの被研磨面を研磨テーブルの研磨面に押し付けて研磨を行なうための基板把持装置において、把持板12には、局所的に変形して前記基板保持面の凹凸を調整するアクチュエータが設けられている。
請求項(抜粋):
基板保持面を有する把持板を備え、該基板保持面に基板を保持して基板の被研磨面を研磨テーブルの研磨面に押し付けて研磨を行なうための基板把持装置において、前記把持板には、局所的に変形して前記基板保持面の凹凸を調整するアクチュエータが設けられていることを特徴とする基板把持装置。
IPC (2件):
B24B 37/04 ,  B24B 37/00
FI (2件):
B24B 37/04 E ,  B24B 37/00 B
Fターム (10件):
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AA12 ,  3C058AB04 ,  3C058BA07 ,  3C058BA08 ,  3C058BB02 ,  3C058BC01 ,  3C058CB05 ,  3C058DA17
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 研磨装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-061716   出願人:株式会社日立製作所

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