特許
J-GLOBAL ID：200903035953103986
レーザマーキング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
後呂 和男
, 村上 二郎
, 水澤 圭子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-051422
公開番号（公開出願番号）：特開2009-208093
出願日： 2008年02月29日
公開日（公表日）： 2009年09月17日
要約：
【課題】ワークの加工面が収束レンズの中心軸方向のどの位置にあっても一定の加工幅で加工できるレーザマーキング装置を提供する。【解決手段】レーザ光源から出射されたレーザ光Lを収束する収束レンズ14と、ワークの加工面の位置(例えば16、16')を設定するワーク情報設定手段と、収束レンズに入射するレーザ光のビーム径又は広がり角を変更することによりレーザ光の焦点位置を調整する焦点位置調整手段とを備え、設定された位置に応じて焦点位置を調整することにより、レーザ光をワーク上の一点に照射した場合に形成される点の幅である加工幅を一定(Aμm)維持する。【選択図】図10
請求項（抜粋）：
座標データに基づいてレーザ光でワークに文字・記号・図形等を形成するレーザマーキング装置であって、
前記レーザ光を出射するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出射されたレーザ光を収束する収束レンズと、
前記収束レンズの中心軸方向における前記ワークの加工面の位置を設定するワーク情報設定手段と、
前記収束レンズに入射する前記レーザ光のビーム径又は広がり角を変更することにより前記レーザ光の焦点位置を調整する焦点位置調整手段と、
を備え、
前記焦点位置調整手段は、前記ワーク情報設定手段で設定された位置に応じて焦点位置を調整することにより、前記レーザ光をワーク上の一点に照射した場合に形成される点の幅である加工幅を一定に維持するレーザマーキング装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
B23K26/00 B
, B23K26/00 M
, B23K26/04 C
4E068AB00
, 4E068CA07
, 4E068CA11
, 4E068CB02
, 4E068CD13
, 4E068CE03
