特許
J-GLOBAL ID：200903036001907476
ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-105209
公開番号（公開出願番号）：特開平7-110572
出願日： 1994年05月19日
公開日（公表日）： 1995年04月25日
要約：
【要約】【目的】 短波長光に対して十分な透過率を有し、フッ化クリプトンエキシマレーザー露光等による高解像度リソグラフィーに使用可能なハーフトーン位相シフトフォトマスク。【構成】 透明基板上のハーフトーン位相シフト層がクロム化合物を主体とする層を少なくとも1層以上含むハーフトーン位相シフトフォトマスクにおいて、そのクロム化合物を主体とする層がクロム原子の他に少なくともフッ素原子を含む化合物であるので、短波長露光でも所定以上の透過率が得られ、フッ化クリプトンエキシマレーザー露光(波長:248nm)等にも使用できるため、高解像度リソグラフィーが実現できる。また、従来型フォトマスクとほとんど同じ方法でマスク化できるため、歩留りの向上、コストの低減が実現できる。
請求項（抜粋）：
透明基板上のハーフトーン位相シフト層がクロム化合物を主体とする層を少なくとも1層以上含むハーフトーン位相シフトフォトマスクにおいて、前記クロム化合物が、クロム原子の他に少なくともフッ素原子を含む化合物であることを特徴とするハーフトーン位相シフトフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
