塗布膜形成方法及びその装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：中本菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-083206
公開番号（公開出願番号）：特開平8-255745
出願日： 1995年03月15日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：

【要約】【目的】塗布液の少量化を図ると共に、塗布膜の均一化を図る。【構成】ドレンカップ14の開口部及びドレンカップ14内に配設される回転カップ12の開口部12aを固定蓋体15及び蓋体16によって閉止し、回転カップ124内に収容されるスピンチャック10にて基板Gを回転可能に支持する。基板Gの上方に移動機構70によって移動する噴頭60に、溶剤供給ノズル40とレジスト液供給ノズル50とを取付ける。これにより、基板Gの上方に噴頭60を移動して、回転している基板Gの一面上に溶剤供給ノズル40から溶剤Aを供給して溶剤Aを基板Gの一面全体に拡散した後、レジスト液供給ノズル50から基板Gの中心部上に、基板Gを所定の第1の回転数で回転させながらレジスト液Bを供給して、基板Gの一面に拡散させ、次いで、回転カップ12の開口部12aを蓋体16にて閉止した後、再び基板Gを第1の回転数より高速な第2の回転数で回転させて、基板Gの一面全体にレジスト膜を形成することができる。

請求項（抜粋）：

処理容器内に収容される基板を、処理容器と共に回転させると共に、基板一面上に塗布液を供給して、塗布膜を形成する方法において、上記基板の一面上に溶剤を塗布する工程と、上記基板に、所定量の塗布液を供給し、第1の回転数で回転させて、基板の一面に拡散させる工程と、上記処理容器に蓋体を閉止して、基板を処理容器内に封入する工程と、上記蓋体が閉止された処理容器及び基板を上記第1の回転数より高速の第2の回転数で回転させて、塗布膜の膜厚を整える工程とを有することを特徴とする塗布膜形成方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , B05C 11/08 , B05D 1/40 , G03F 7/16 502

FI (5件)：

H01L 21/30 564 D , B05C 11/08 , B05D 1/40 A , G03F 7/16 502 , H01L 21/30 564 C

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開昭63-133526
スピン式コーティング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-007921 出願人：シャープ株式会社
特開平3-293055

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