特許
J-GLOBAL ID：200903036050534103
溶銑脱燐用上吹きランス及び溶銑脱燐方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内藤 俊太 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-264761
公開番号（公開出願番号）：特開2002-069525
出願日： 2000年09月01日
公開日（公表日）： 2002年03月08日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、ハロゲン化物を用いることなく高い脱燐反応効率を可能とするための上吹きランス、及び、高い反応効率の溶銑脱燐を可能とする方法を提供するものである。【解決手段】 上底吹き機能を有する精錬装置を用いた、生石灰と酸素ガス、又は、生石灰と酸素ガスと酸化鉄による溶銑脱燐において、酸素ガスを供給する上吹きランスノズル入り側の絶対圧P0(MPa)、該ノズルの適正膨張絶対圧Pop(MPa)のとき、P0/Popを0.2〜0.85とすることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
上底吹き機能を有する精錬装置を用いた、石灰と酸素ガス、又は、生石灰と酸素ガスと酸化鉄による溶銑脱燐に用いる上吹きランスであって、ノズル入り側の絶対圧P0(MPa)に対して、該ノズルの適正膨張絶対圧Pop(MPa)が、下記(2)式においてP0/Popで0.2〜0.85となるような、ノズル出口面積Se(mm2)とノズルスロ-ト面積St(mm2)の比を持ったノズルを有することを特徴とする溶銑脱燐用上吹きランス。Se/St=0.259×(Pe/Pop)-5/7 ×{1-(Pe/Pop)2/7}-1/2 ・・・ (2) ここで、Peは精錬装置内圧力であり、通常の大気圧精錬でPe=0.1MPaとなる。
IPC (2件)：
C21C 5/46 101
, C21C 1/02 110
C21C 5/46 101
, C21C 1/02 110
4K002BF03
, 4K014AA03
, 4K014AB03
, 4K014AB04
, 4K014AB12
, 4K014AC01
, 4K014AC08
, 4K014AC14
, 4K014AC16
, 4K014AC17
, 4K014AD27
