処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：須山佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-365991
公開番号（公開出願番号）：特開2002-237514
出願日： 1997年08月25日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】カセットステーション内の洗浄空気のダウンフローを乱すことなく、蓋をもつカセットから基板を出し入れすることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】サブアーム機構とカセット載置台20との間を仕切る仕切部材の一部にカセットCRの開口部と向き合うように通路33aを設け、この通路33aに対してカセット載置台20上のカセットCRの開口部を接近させたり遠ざけたりするカセット移動機構82を配設した。一方、通路33aの下側にはカセット蓋44を保持した状態で上下方向に移動させる蓋外し機構47を配設し、カセット移動機構82と蓋外し機構47とを同期して作動させることにより蓋44の取り外し、取り付けを行い、取り外した蓋44は通路33aの下側に収納するようにした。

請求項（抜粋）：

複数の被処理体を出し入れするための開口部が形成され、この開口部に着脱自在に取り付けられる蓋をもつカセットと、前記カセットの内圧よりも高い圧力に設定された搬送室内に設けられ、前記カセッ卜から被処理体を出し入れする搬送手段と、前記カセット側のスペースと前記搬送手段側のスペースとを仕切ると共に、両スペース間で被処理体を受け渡すための受け渡し窓を有する仕切り部材と、前記受け渡し窓を介して前記カセットから蓋を外し、前記搬送手段側のスペースの下方に前記蓋を移送する蓋移送機構と、を具備することを特徴とする処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 , G03F 7/30 501 , H01L 21/027

FI (5件)：

H01L 21/68 A , H01L 21/68 T , G03F 7/30 501 , H01L 21/30 564 C , H01L 21/30 569 C

Fターム (62件)：

2H096AA25 , 2H096CA14 , 2H096GA21 , 2H096GA29 , 5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031DA08 , 5F031DA17 , 5F031EA11 , 5F031EA14 , 5F031FA01 , 5F031FA05 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031FA18 , 5F031FA21 , 5F031GA02 , 5F031GA30 , 5F031GA35 , 5F031GA36 , 5F031GA42 , 5F031GA47 , 5F031GA48 , 5F031GA49 , 5F031JA01 , 5F031JA05 , 5F031JA13 , 5F031JA14 , 5F031JA17 , 5F031JA22 , 5F031JA23 , 5F031JA25 , 5F031JA32 , 5F031JA36 , 5F031JA45 , 5F031JA46 , 5F031KA20 , 5F031LA12 , 5F031LA15 , 5F031MA02 , 5F031MA04 , 5F031MA06 , 5F031MA15 , 5F031MA24 , 5F031MA26 , 5F031MA27 , 5F031MA30 , 5F031NA03 , 5F031NA04 , 5F031NA10 , 5F031NA11 , 5F031NA16 , 5F031NA17 , 5F031PA02 , 5F046JA05 , 5F046JA07 , 5F046JA24 , 5F046LA06 , 5F046LA07 , 5F046LA13

引用特許：

審査官引用 (2件)

クリーン搬送方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-024992 出願人：ティーディーケイ株式会社
処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-093660 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社

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