特許
J-GLOBAL ID:200903036122635899

色素増感型太陽電池用基板の製造方法、色素増感型太陽電池の製造方法、および、これらによって製造された色素増感型太陽電池用基板および色素増感型太陽電池。

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 山下 昭彦 ,  岸本 達人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-095706
公開番号(公開出願番号):特開2008-257893
出願日: 2007年03月30日
公開日(公表日): 2008年10月23日
要約:
【課題】金属酸化物半導体微粒子の結着性に優れた多孔質層を有し、発電効率に優れた色素増感型太陽電池を製造できる色素増感型太陽電池用基板を少ない工程で製造可能な、色素増感型太陽電池用基板の製造方法を提供する。【解決手段】耐熱基板1上に、金属からなる触媒層2と、絶縁物質からなる多孔質絶縁層3と、酸化粒半導体微粒子を含む多孔質層4とがこの順で積層された多孔質積層体を形成する多孔質積層体形成工程と、上記多孔質積層体の上記多孔質層上に、金属酸化物からなる透明電極層5を形成する透明電極層形成工程と、を有する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
耐熱基板上に、金属からなる触媒層と、絶縁物質からなる多孔質絶縁層と、金属酸化物半導体微粒子を含む多孔質層とがこの順で積層された多孔質積層体を形成する、多孔質積層体形成工程と、 前記多孔質積層体の前記多孔質層上に、金属酸化物からなる透明電極層を形成する透明電極層形成工程と、を有することを特徴とする色素増感型太陽電池用基板の製造方法。
IPC (2件):
H01M 14/00 ,  H01L 31/04
FI (2件):
H01M14/00 P ,  H01L31/04 Z
Fターム (7件):
5F051AA14 ,  5H032AA06 ,  5H032AS09 ,  5H032AS16 ,  5H032BB05 ,  5H032BB10 ,  5H032CC14
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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