特許
J-GLOBAL ID：200903061757202497
色素増感型太陽電池用基材の製造方法および色素増感型太陽電池の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-326900
公開番号（公開出願番号）：特開2005-166648
出願日： 2004年11月10日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：
【課題】色素増感型太陽電池用基材を歩留まり良く製造する方法、およびそれを用いて色素増感型太陽電池を製造する方法を提供する。【解決手段】耐熱基板1上に有機物および金属酸化物半導体微粒子を含有する介在層形成用塗工液を塗布し、固化させて介在層形成用層2を形成する介在層形成用層形成工程と、上記介在層形成用層上に、上記介在層形成用塗工液よりも金属酸化物半導体微粒子の固形分中の濃度が高い酸化物半導体層形成用塗工液を塗布し、固化させて酸化物半導体層形成用層3を形成する酸化物半導体層形成用層形成工程と、上記介在層形成用層および酸化物半導体層形成用層を焼成することにより多孔質体とし、介在膜および酸化物半導体膜を形成する焼成工程と、上記酸化物半導体膜上に、第1電極層および基材を設ける電極基材形成工程とを有する色素増感型太陽電池用基材の製造方法である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
耐熱基板上に有機物および金属酸化物半導体微粒子を含有する介在層形成用塗工液を塗布し、固化させて介在層形成用層を形成する介在層形成用層形成工程と、
前記介在層形成用層上に、前記介在層形成用塗工液よりも金属酸化物半導体微粒子の固形分中の濃度が高い酸化物半導体層形成用塗工液を塗布し、固化させて酸化物半導体層形成用層を形成する酸化物半導体層形成用層形成工程と、
前記介在層形成用層および酸化物半導体層形成用層を焼成することにより多孔質体とし、介在膜および酸化物半導体膜を形成する焼成工程と、
前記酸化物半導体膜上に、第1電極層および基材を設ける電極基材形成工程と
を有することを特徴とする色素増感型太陽電池用基材の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01M14/00 P
, H01L31/04 Z
5F051AA14
, 5H032AA06
, 5H032AS09
, 5H032AS10
, 5H032AS16
, 5H032BB02
, 5H032BB05
, 5H032BB07
, 5H032BB10
, 5H032CC11
