特許

J-GLOBAL ID：200903036237399005

光ディスクの製造方法

発明者： 中山 武人 ,  久保田 新 ,  早坂 拓哉
出願人/特許権者： リンテック株式会社
代理人 (1件)： 早川 裕司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-324917
公開番号（公開出願番号）：特開2003-132593
出願日： 2001年10月23日
公開日（公表日）： 2003年05月09日
要約：

【要約】【課題】 光ディスクを連続的に効率良く生産することが可能となる光ディスクの製造方法を提供する。【解決手段】 (a)エネルギー線硬化性層1を有する長尺の光ディスク製造用シート10の当該エネルギー線硬化性層1にスタンパーSを圧着し、当該エネルギー線硬化性層1に前記スタンパーSが有する凹凸パターンを転写する工程と、(b)前記エネルギー線硬化性層1にエネルギー線を照射して当該エネルギー線硬化性層1を硬化させ、前記転写した凹凸パターンを固定する工程と、(c)前記スタンパーSと前記硬化したエネルギー線硬化性層1とを分離する工程と、(d)前記エネルギー線硬化性層1の前記凹凸パターンが転写された面に反射膜3を形成する工程と、(e)前記エネルギー線硬化性層の前記反射膜が形成された側またはその反対側に接着剤を介して光ディスク基板を積層する工程とを備え、少なくとも前記(a)〜(c)の工程の間は、前記長尺の光ディスク製造用シート10を切断することなく行う。

請求項（抜粋）：

(a)エネルギー線硬化性層を有する長尺の光ディスク製造用シートの当該エネルギー線硬化性層にスタンパーを圧着し、当該エネルギー線硬化性層に前記スタンパーが有する凹凸パターンを転写する工程と、(b)前記エネルギー線硬化性層にエネルギー線を照射して当該エネルギー線硬化性層を硬化させ、前記転写した凹凸パターンを固定する工程と、(c)前記スタンパーと前記硬化したエネルギー線硬化性層とを分離する工程と、(d)前記エネルギー線硬化性層の前記凹凸パターンが転写された面に反射膜を形成する工程と、(e)前記エネルギー線硬化性層の前記反射膜が形成された側またはその反対側に接着剤を介して光ディスク基板を積層する工程とを備え、少なくとも前記(a)〜(c)の工程の間は、前記長尺の光ディスク製造用シートを切断することなく行うことを特徴とする光ディスクの製造方法。

Fターム (7件)：

5D121AA01 ,  5D121AA04 ,  5D121AA05 ,  5D121DD06 ,  5D121EE28 ,  5D121GG02 ,  5D121GG24

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 光学記録媒体およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-301422   出願人：ソニー株式会社
• 光ディスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-076156   出願人：パイオニア株式会社, パイオニアビデオ株式会社
• 光ディスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-012216   出願人：ソニー株式会社
• 光ディスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-009819   出願人：ソニー株式会社