半導体基板洗浄装置及び半導体基板洗浄方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小鍜治明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-169936
公開番号（公開出願番号）：特開平5-021413
出願日： 1991年07月10日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：

【要約】【目的】隣接した半導体半導体基板から半導体半導体基板表面への汚染がなく、パーティクルを速やかに除去できる半導体基板洗浄装置を提供する。【構成】洗浄槽の側壁に薬液供給口9と相対する側壁に薬液排出口10を設け、半導体基板6を洗浄槽1内の薬液液面に平行に挿入し、洗浄槽1内には半導体基板6を収納するカセット7が設置されている。

請求項（抜粋）：

洗浄槽の側壁に薬液供給口を設け相対する側壁に薬液排出口を設け、前記薬液供給口から供給された薬液により前記薬液表面に平行に設置した半導体基板を洗浄することを特徴とする半導体基板洗浄装置。

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭64-012533
特開昭57-159027
基板洗浄槽
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-029313 出願人：株式会社リコー

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