特許
J-GLOBAL ID：200903036286331297
シームレスチューブ及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
遠山 勉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-151789
公開番号（公開出願番号）：特開平11-344025
出願日： 1998年06月01日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
要約：
【要約】【課題】 ある一定の抵抗ばらつきと、ある一定の抵抗変化量にコントロールした表面層を備えるシームレスチューブ及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 シームレスチューブ各部における体積抵抗率又は表面抵抗率の最大値/最小値で表されるばらつきが1〜100倍の範囲にあり、かつ前記シームレスチューブ上任意の20mm間での最大値/最小値で表される抵抗率変化が8以内であることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
シームレスチューブ各部における体積抵抗率又は表面抵抗率の最大値/最小値で表されるばらつきが1〜100倍の範囲にあり、かつ前記シームレスチューブ上任意の20mm間での最大値/最小値で表される抵抗率変化が8以内であることを特徴とするシームレスチューブ。
IPC (5件)：
F16C 13/00
, B29C 47/20
, B29C 47/88
, G03G 15/02 101
, B29L 23:00
F16C 13/00 A
, B29C 47/20 Z
, B29C 47/88 Z
, G03G 15/02 101
