特許
J-GLOBAL ID：200903036305251208
マスター情報担体およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-149645
公開番号（公開出願番号）：特開2000-339670
出願日： 1999年05月28日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：
【要約】【課題】 マスター情報担体を用いて磁界を印加することによりプリフォーマット情報信号を磁気記録媒体に転写する際に、磁気記録媒体を損傷せず、また磁気記録媒体との良好な密着性を確保する。【解決手段】 基体の表面にプリフォーマット情報信号に対応する強磁性材料の薄膜パターンが形成され、前記薄膜パターンが形成されていない領域(23)の少なくとも一部分の表面高さを、前記薄膜パターンが形成されている領域(22)の表面高さよりも低くしたマスター情報担体(21)において、前記薄膜パターンが形成されている領域(22)の外縁部(24)の少なくとも一部分、および必要に応じて前記薄膜パターンが形成されていない領域(23)の外縁部(25)の少なくとも一部分を面取りして、薄膜パターンが形成されている領域の角部および薄膜パターンの隅部を鈍角にする。
請求項（抜粋）：
基体の表面にプリフォーマット情報信号に対応する強磁性材料の薄膜パターンが形成され、前記薄膜パターンが形成されていない領域の少なくとも一部分の表面高さを、前記薄膜パターンが形成されている領域の表面高さよりも低くしたマスター情報担体において、前記薄膜パターンが形成されている領域の外縁部の少なくとも一部分および前記薄膜パターンが形成されていない領域の外縁部の少なくとも一部分が面取りされていることを特徴とするマスター情報担体。
IPC (4件)：
G11B 5/84
, G11B 5/82
, G11B 5/855
, G11B 5/86
G11B 5/84
, G11B 5/82
, G11B 5/855
, G11B 5/86 C
5D006BB01
, 5D006BB07
, 5D006CB04
, 5D006CB07
, 5D006DA03
, 5D006DA04
, 5D006FA09
, 5D112AA02
, 5D112AA05
, 5D112AA24
, 5D112BA02
, 5D112GA20
, 5D112GA27
, 5D112GA30
