特許

J-GLOBAL ID：200903036367552727

ウェーハ表面に付着した有機化合物の評価方法およびその装置

発明者： 岡田 千鶴子
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社 ,  三菱マテリアルシリコン株式会社
代理人 (1件)： 安倍 逸郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-157932
公開番号（公開出願番号）：特開平6-347445
出願日： 1993年06月03日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：

【要約】【目的】 ウェーハ表面に付着した有機化合物の分析、評価を効率的に行うことができる方法、および、その評価を行うための装置を提供する。【構成】 ウェーハを昇温脱離装置Aにて昇温し、ウェーハ表面から有機化合物を脱離させる。脱離有機化合物を紫外線吸収スペクトル測定装置Bに導き、紫外線を照射、透過した紫外線の強度を測定することにより、紫外線吸収スペクトルを測定する。この脱離有機化合物を電子ビーム照射装置Cに導入し、電子ビームを照射する。脱離有機化合物は小さなフラグメントに分割されてイオン化する。このイオン化したフラグメント単位の有機化合物を、マスフィルタDに導入して加速し、その質量スペクトルを得る。これらの紫外線吸収スペクトルと質量スペクトルとに基づいて脱離有機化合物の分子構造を同定し、さらにウェーハ表面に付着した有機化合物の同定、評価を行う。

請求項（抜粋）：

ウェーハ表面から有機化合物を脱離し、この脱離したガス状の有機化合物についてそのまま紫外線吸収スペクトルを測定し、この脱離したガス状の有機化合物をそのままイオン化し、イオン化した脱離有機化合物の質量分析を行うとともに、上記紫外線吸収スペクトルとこの質量分析の結果とに基づいてウェーハ表面に付着した有機化合物の評価を行うことを特徴とするウェーハ表面に付着した有機化合物の評価方法。

IPC (4件)：

G01N 27/62 ,  G01N 21/33 ,  G01N 27/64 ,  H01J 49/10

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 質量分析計
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-250890   出願人：株式会社日立製作所