特許
J-GLOBAL ID:200903036397002497
有機材料膜の成膜方法、有機EL素子の製造方法および製造装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
瀧野 秀雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-102190
公開番号(公開出願番号):特開2000-294372
出願日: 1999年04月09日
公開日(公表日): 2000年10月20日
要約:
【要約】【課題】 測定精度のよい有機材料膜の成膜方法、有機EL素子の製造方法および製造装置を提供する。【解決手段】 真空蒸着法により有機材料層を形成する有機EL素子の製造装置であって、有機材料の蒸発分子に紫外線を照射する紫外線照射手段と、前記蒸着分子の蛍光強度を測定する蛍光強度測定手段とを備える。
請求項(抜粋):
真空蒸着法により有機材料膜を成膜する有機材料膜の成膜方法であって、有機材料の蒸発分子に紫外線を照射して該分子の蛍光強度を測定することにより、基板に形成される有機材料膜の膜厚を決定することを特徴とする有機材料膜の成膜方法。
IPC (4件):
H05B 33/10
, H05B 33/14
, C23C 14/24
, C23C 14/54
FI (4件):
H05B 33/10
, H05B 33/14 A
, C23C 14/24 N
, C23C 14/54 C
Fターム (15件):
3K007AB18
, 3K007CA01
, 3K007CB01
, 3K007DA01
, 3K007DB03
, 3K007EB00
, 3K007FA01
, 4K029BA62
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029DA12
, 4K029EA00
, 4K029EA01
, 4K029EA02
引用特許:
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