特許

J-GLOBAL ID：200903036475211332

チャック、処理ユニット、基板処理装置およびチャック面洗浄方法

発明者： 稲垣 幸彦
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-030324
公開番号（公開出願番号）：特開2006-216886
出願日： 2005年02月07日
公開日（公表日）： 2006年08月17日
要約：

【課題】基板の裏面に吸着跡を付けることのないチャックを提供する。【解決手段】基板の裏面を真空吸着して固定保持するスピンチャックの吸着面32dには、樹脂材料を切削加工したときの削り屑や樹脂に含まれる成分の粒子等の異物99が付着している。そのような吸着面32dを導電性ポリマーを主成分とする光硬化型のアクリル系樹脂の樹脂膜39によって被覆する。これにより、吸着面32dに付着していた異物99を樹脂膜39によって覆って表面に露出させないようにすることができ、その結果、スピンチャックの吸着面32dに基板を真空吸着したときにも、その裏面に異物99が付着したりキズを付けたりするのを防ぐことができ、吸着跡の付着を防止することができる。【選択図】図9

請求項（抜粋）：

基板を吸着面に真空吸着することによって固定保持するチャックであって、 前記チャックの本体を形成する樹脂とは異なる樹脂膜によって前記吸着面を被覆したことを特徴とするチャック。

IPC (5件)：

H01L 21/683 ,  B08B 3/02 ,  B08B 7/00 ,  B08B 11/02 ,  H01L 21/304

FI (6件)：

H01L21/68 P ,  B08B3/02 B ,  B08B7/00 ,  B08B11/02 ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 648A

Fターム (36件)：

3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AA47 ,  3B116AB23 ,  3B116AB33 ,  3B116AB42 ,  3B116BA01 ,  3B116BA22 ,  3B116BB22 ,  3B116BB82 ,  3B116BC07 ,  3B116CC05 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AA47 ,  3B201AB23 ,  3B201AB33 ,  3B201AB42 ,  3B201BA01 ,  3B201BA22 ,  3B201BB22 ,  3B201BB82 ,  3B201BB91 ,  3B201BC07 ,  3B201CC21 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA02 ,  5F031HA08 ,  5F031HA10 ,  5F031HA13 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA04 ,  5F031PA20 ,  5F031PA24

引用特許：

出願人引用 (1件)

• レジスト塗布装置および半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-293320   出願人：セイコーエプソン株式会社