露光量測定方法及び露光量測定装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-207333
公開番号（公開出願番号）：特開2002-025895
出願日： 2000年07月07日
公開日（公表日）： 2002年01月25日
要約：

【要約】【課題】フォーカスに依存しない露光量を連続的、且つ正確に測定する。【解決手段】特定のマスクパターンに対応するウェハ上のレジストの膜厚に対応する物理量を測定する測定ステップS101と、この測定ステップで測定された物理量と予め設定された設定範囲値とを比較する比較ステップS102と、測定された物理量が設定範囲値内の場合、予め求められた物理量と露光量との関係に基づいてウェハ上の実効的な露光量を測定するステップS104と、測定ステップで測定された物理量が設定範囲値外の場合、測定に用いたレジストに対応するマスクパターンと異なる種類のマスクパターンに対応するレジストの膜厚に応じた物理量を測定する再測定ステップS107,S108と、測定された物理量が設定範囲値内の場合、予め求められた物理量と露光量との関係に基づいて、ウェハ上の実効的な露光量を測定するステップS109,110とを含む。

請求項（抜粋）：

マスクパターンが形成されたマスクを、露光波長λ,ウェハ側開口数NA,照明のコヒーレンスファクタσ,ウェハ上のパターンに対するマスクパターンの倍率Mなる露光装置にセットし、ウェハ上に塗布されたレジストにマスクパターンを露光し、該マスクパターンに対応するウェハ上のレジストの状態を観察することにより、ウェハ上の実効的な露光量を測定する露光量測定方法であって、前記マスクパターンは周期pにて透光部と遮光部が繰り返されたパターンであり、前記周期pが、p/M≦λ/(1+σ)NAを満たすように設定され、前記ウェハ上のレジストのレジストの膜厚に応じた物理量を測定するステップと、測定された物理量と、予め求められた前記レジストの膜厚に応じた物理量と露光量との関係とに基づいて、前記ウェハ上の実効的な露光量を測定するステップとを含むことを特徴とする露光量測定方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

G03F 7/20 521 , H01L 21/30 516 D

Fターム (8件)：

5F046AA18 , 5F046AA25 , 5F046BA04 , 5F046DA02 , 5F046JA04 , 5F046JA22 , 5F046LA18 , 5F046PA01

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-074023
露光量測定方法と露光量測定用マスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-171345 出願人：株式会社東芝
特開平4-180613

全件表示

前のページに戻る