特許
J-GLOBAL ID:200903036526753844

ラビング処理方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三好 秀和 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-227072
公開番号(公開出願番号):特開平7-082395
出願日: 1993年09月13日
公開日(公表日): 1995年03月28日
要約:
【要約】【目的】 配向状態を精密に制御し、安定な製造条件を得ることのできるラビング処理方法及びその装置を提供する。【構成】 基板上に形成される高分子膜表面の分子配向を一定方向とするためのラビング処理装置であって、前記高分子配向膜表面を一方向にラビングするラビング手段と、このラビング手段でラビングされる高分子配向膜表面の温度を検出する検出手段と、この検出手段で検出される高分子配向膜表面の温度に対応してラビング手段を制御してラビング状態を変更する制御手段とを備えて構成される。
請求項(抜粋):
ラビング処理に係る領域における高分子配向膜の温度を、当該高分子配向膜を構成する高分子材料のガラス転移温度以上かつ、当該ガラス転移温度を60°C以上越えない範囲とすることを特徴とするラビング処理方法。
IPC (2件):
C08J 7/00 ,  G01M 11/00
引用特許:
審査官引用 (2件)

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