特許
J-GLOBAL ID：200903036543300985
素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉田 勝広
, 近藤 利英子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-197808
公開番号（公開出願番号）：特開2004-039561
出願日： 2002年07月05日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：
【課題】各種素子の製造において材料の溶液に含まれる水分や溶解ガス(酸素など)などを除去することで、得られる素子特性の劣化要因を排除できる素子の製造方法を提供すること。【解決段】基板上に薄膜を形成する素子の製造方法において、上記薄膜を構成する材料の溶液を一旦凍結させて脱気した後、該凍結物を解凍した溶液を基板上に塗布して薄膜を形成することを特徴とする素子の製造方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
基板上に薄膜を形成する素子の製造方法において、上記薄膜を構成する材料の溶液を一旦凍結させて脱気した後、該凍結物を解凍した溶液を基板上に塗布して薄膜を形成することを特徴とする素子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (4件)：
3K007AB12
, 3K007AB13
, 3K007DB03
, 3K007FA01
