特許
J-GLOBAL ID：200903036607508542

窒素ガスの製造方法および製造装置

発明者：
福原 廣

福原 廣 について


出願人/特許権者：
株式会社フクハラ

株式会社フクハラ について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-329029
公開番号（公開出願番号）：特開2005-060211
出願日： 2003年08月18日
公開日（公表日）： 2005年03月10日
要約：
【課題】 PSA方式の場合、装置が大型で電磁弁等の装置のメンテナンスにまた流量が多い場合には難点があり、膜分離方式の場合、窒素濃度は95〜99.9%程度となるために高濃度のニーズには適せず、深冷分離方式の場合、99.999%以上の高濃度の窒素が得られるが大規模な設備が必要であった。【解決手段】 圧縮空気から酸素ガスを除去することで作り出した窒素ガスを、加熱した鉄粉末または加熱したマグネシュウム粉末に接触させることで残った酸素ガスを反応させて除去する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
圧縮空気から酸素ガスを除去することで作り出した窒素ガスを、加熱した鉄粉末または加熱したマグネシュウム粉末に接触させることで残った酸素ガスを反応させて除去することを特徴とする窒素ガスの製造方法。
IPC (3件)：
C01B21/04 ,  B01D53/14 ,  B01D53/26
FI (4件)：
C01B21/04 V ,  B01D53/14 B ,  B01D53/26 A ,  B01D53/26 101C
Fターム (13件)：
4D020AA02 ,  4D020BA01 ,  4D020BA04 ,  4D020BB01 ,  4D020CB08 ,  4D020CD10 ,  4D020DA03 ,  4D020DB06 ,  4D020DB10 ,  4D052AA01 ,  4D052BA04 ,  4D052CE00 ,  4D052HA01
引用特許：
審査官引用 (4件)
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