特許
J-GLOBAL ID：200903036610919707
制汗塩用シリコ-ン溶媒
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
生沼 徳二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-164581
公開番号（公開出願番号）：特開2000-086767
出願日： 1999年06月11日
公開日（公表日）： 2000年03月28日
要約：
【要約】 (修正有)【解決手段】H2(OH)CCH(OH)CH2OCH2CH=CH2又は(HOCH2)2C(CH2CH3)CH2OCH2CH=CH2の存在下でオルガノハイドロジェンシリコーンのヒドロシリル化によって製造される。【効果】置換基をもつ1,2又は1,3グリコールで官能化したシリコーン組成物は制汗塩をそれらに可溶性又は部分可溶性或いはそれらと部分的混和性とする。かかる官能化シリコーンは制汗塩と共に透明制汗ゲルスティックを生ずる。
請求項（抜粋）：
次式のシリコーン化合物。MaM'bDcD'dTeT'fQg式中、下付符号a、c、d、e、f及びgは下付符号bとdとfの合計が1以上であることを条件としてゼロ又は正の整数であり、Mは次式:R13SiO1/2(各R1は独立に炭素原子数1〜40の一価炭化水素基である)を有するものであり、M'は次式:R23-hR3hSiO1/2(各R2は独立に炭素原子数1〜40の一価炭化水素基であり、R3はH2(OH)CCH(OH)CH2OCH2CH2CH2-及び(HOCH2)2C(CH2CH3)CH2OCH2CH2CH2-からなる群から選択される一価炭化水素基であり、下付符号hは1、2又は3である)を有するものであり、Dは次式:R42SiO2/2(各R4は独立に炭素原子数1〜40の一価炭化水素基である)を有するものであり、D'は次式:R52-iR6iSiO2/2(各R6は独立に炭素原子数1〜40の一価炭化水素基であり、R5はH2(OH)CCH(OH)CH2OCH2CH2CH2-及び(HOCH2)2C(CH2CH3)CH2OCH2CH2CH2-からなる群から選択される一価炭化水素基であり、下付符号iは1又は2である)を有するものであり、Tは次式:R7SiO3/2(各R7は独立に炭素原子数1〜40の一価炭化水素基である)を有するものであり、T'は次式:R8SiO3/2(各R8はH2(OH)CCH(OH)CH2OCH2CH2CH2-及び(HOCH2)2C(CH2CH3)CH2OCH2CH2CH2-からなる群から選択される一価炭化水素基である)を有するものであり、Qは式 SiO4/2 を有する。
IPC (5件)：
C08G 77/50
, A61K 7/32
, C08G 77/38
, C08K 3/22
, C08L 83/06
C08G 77/50
, A61K 7/32
, C08G 77/38
, C08K 3/22
, C08L 83/06
