特許

J-GLOBAL ID：200903036611528922

処理装置

発明者： 小 川 直 也 ,  鈴 木 節 雄 ,  大 橋 幸 夫 ,  川 地 孝 典 ,  林 幸 司
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-374624
公開番号（公開出願番号）：特開2000-189749
出願日： 1998年12月28日
公開日（公表日）： 2000年07月11日
要約：

【要約】【課題】 最小限のオゾン消費により省エネ化を図り、かつ少ない消費電力・小スペースでオゾンにより処理する分解能力が高い処理装置を提供する。【解決手段】 有機化合物や無機化合物を分解処理する処理容器1内に、ノズルが設けられ、水溶液Aがノズル2より処理容器1内に噴霧される。オゾン発生ランプ3によるオゾン発生とUV光によりオゾンが活性化し、オゾンが水溶液A中に溶ける。臭気ガスB中の有機化合物や無機化合物が水溶液中のオゾンにより分解される。

請求項（抜粋）：

被処理物体が導入されるとともに処理物体が排出される処理容器と、処理容器内に設けられ、オゾンを発生させるオゾン発生光源と、処理容器内にオゾンを溶解するための液体を噴射させる液体供給手段と、を備えたことを特徴とする処理装置。

IPC (7件)：

B01D 53/38 ,  B01D 53/74 ,  A61L 9/015 ,  B01D 53/34 ZAB ,  C01B 13/10 ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/78

FI (6件)：

B01D 53/34 116 F ,  A61L 9/015 ,  C01B 13/10 Z ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/78 ,  B01D 53/34 ZAB

Fターム (44件)：

4C080AA07 ,  4C080BB02 ,  4C080BB05 ,  4C080CC01 ,  4C080HH02 ,  4C080HH03 ,  4C080KK06 ,  4C080KK08 ,  4C080LL02 ,  4C080LL04 ,  4C080MM08 ,  4C080NN01 ,  4D002AB02 ,  4D002AC10 ,  4D002BA04 ,  4D002BA05 ,  4D002BA06 ,  4D002BA09 ,  4D002BA16 ,  4D002CA01 ,  4D002CA20 ,  4D002DA35 ,  4D002DA41 ,  4D002DA51 ,  4D002DA70 ,  4D002EA02 ,  4D002GA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB01 ,  4D002GB02 ,  4D002GB08 ,  4D002HA10 ,  4D050AA20 ,  4D050AB04 ,  4D050BA20 ,  4D050BB02 ,  4D050BC05 ,  4D050BC09 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD08 ,  4D050CA06 ,  4D050CA07 ,  4G042CE04

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭54-136571
  
• 特開昭62-221424
  
• 排ガス処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-317245   出願人：日立プラント建設株式会社
• 特開昭51-010174