特許

J-GLOBAL ID：200903036630158400

荷電粒子ビーム用電磁石装置

発明者： 河合 禎
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-300342
公開番号（公開出願番号）：特開平7-153406
出願日： 1993年11月30日
公開日（公表日）： 1995年06月16日
要約：

【要約】【構成】 電磁石3の磁極7・7が、イオンビーム1のビーム通路を真空に保持するための真空容器2の内部に設けられると共に、上記真空容器2の内部には、電磁石3の磁極7・7がビーム通路に露出しないように該磁極7・7を覆う、非磁性材料からなるシールド部材9が設けられている。【効果】 磁極7・7間のギャップを短くすることができ、電磁石3の小型化が図れる。磁極7・7がシールド部材9に保護されてイオンビーム等によるスパッタリングを受けず、磁極7・7の変形が防がれるので、ビーム通路に目的の磁界を安定に形成できる。シールド部材9は、スパッタリングされ難い材質、或いはスパッタリングされてもビーム照射対象物に影響が少ない材質にすることができるので、ビーム照射対象物の汚染を大幅に低減することができる。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームのビーム通路を真空に保つための真空容器と、上記真空容器内のビーム通路を挟んで対向配置された磁極を有し、該ビーム通路に磁場を形成するための電磁石とを備え、上記電磁石の磁極が上記真空容器の内部に設けられてなる荷電粒子ビーム用電磁石装置において、上記真空容器の内部には、上記電磁石の磁極がビーム通路に露出しないように該磁極を覆う、非磁性材料からなるシールド部材が設けられていることを特徴とする荷電粒子ビーム用電磁石装置。

IPC (4件)：

H01J 37/141 ,  C23C 14/48 ,  H01J 37/317 ,  H01L 21/265

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-292557
  
• 特公昭26-002614
  
• イオン注入装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-232165   出願人：日本真空技術株式会社