特許

J-GLOBAL ID：200903036632356978

回路基板の製造方法

発明者： 福島 基夫 ,  森 滋
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-094111
公開番号（公開出願番号）：特開平10-326957
出願日： 1998年03月23日
公開日（公表日）： 1998年12月08日
要約：

【要約】【課題】 安価で簡便な工程により、優れた耐熱性を持つ高導電部と絶縁部からなり、各種微小なマイクロ発熱体、バッテリー電極、太陽電池、センサー、集積回路、微小なマイクロモーター用筐体等に応用可能な優れたパターン精細度を持つ回路基板であり、電気、電子、通信分野等で広く用いることができる回路を形成した基板を工業的に有利に得る。【解決手段】 (1)基板上に形成したポリシラン膜を選択的に光照射し、その露光部にSi-O結合を表層に持つ親水化ポリシラン部の潜像パターンを形成する工程、(2)次いで、上記親水化ポリシラン部の表層にパラジウム塩を接触させ、パラジウムの吸着された潜像層を形成する工程、(3)上記潜像層に無電解メッキ液を接触させ、この潜像層上に金属画像を形成する工程を含むことを特徴とする高導電部と絶縁部とからなる回路基板の製造方法。

請求項（抜粋）：

(1)基板上に形成したポリシラン膜を選択的に光照射し、その露光部にSi-O結合を表層に持つ親水化ポリシラン部の潜像パターンを形成する工程、(2)次いで、上記親水化ポリシラン部の表層にパラジウム塩を接触させ、パラジウムの吸着された潜像層を形成する工程、(3)上記潜像層に無電解メッキ液を接触させ、この潜像層上に金属画像を形成する工程を含むことを特徴とする高導電部と絶縁部とからなる回路基板の製造方法。

IPC (3件)：

H05K 3/18 ,  C09D183/04 ,  C23C 18/31

FI (3件)：

H05K 3/18 C ,  C09D183/04 ,  C23C 18/31 F

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-062295
  
• 特開平4-326719
  
• 配線パターン形成材料およびパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-051879   出願人：松下電器産業株式会社