特許
J-GLOBAL ID：200903036657365599
液体多原子イオンビーム発生装置
出願人/特許権者：
株式会社エイコー・エンジニアリング
株式会社エイコー・エンジニアリング について
代理人 (1件)： 北條 和由
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-110279
公開番号（公開出願番号）：特開2003-308796
出願日： 2002年04月12日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 親水性や疎水性などの化学的性質や付加・置換反応を制御して表面改質が行え、さらに安定性に優れた表面改質が行えるようにする。【解決手段】 常温で液体の物質を小孔から真空中に噴射させ、該物質をイオン化してイオンビーム16として引き出すことができる電離部8と該イオン化した物質を質量の大きさによって選別できる質量分離器13を有し、質量分離された該イオンビーム16を加速し、該加速エネルギーを制御して基板19の表面に照射し、該基板19の表面を改質する。例えば前記の小孔は、ノズル1の形状となっている。
請求項（抜粋）：
常温で液体の物質を小孔から真空中に噴射させ、該物質をイオン化してイオンビームとして引き出すことができる電離部と該イオン化した物質を質量の大きさによって選別できる質量分離器を有し、質量分離された該イオンビームを加速し、該加速エネルギーを制御して基板表面に照射し、該基板表面を改質できることを特徴とした液体多原子イオンビーム発生装置。
IPC (3件)：
FI (3件)：
Fターム (4件)：
引用特許：
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