特許

J-GLOBAL ID：200903036661829842

マスク描画装置とその描画方法

発明者： 安里 直生
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 畑 泰之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-066801
公開番号（公開出願番号）：特開2000-267256
出願日： 1999年03月12日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
要約：

【要約】【課題】 マルチパスグレープリンティング方式のマスク描画装置において、露光時間を低減したマスク描画装置を提供する。【解決手段】 ウエーハ上のレジストに露光して、所定のパターンを描画するラスタスキャン方式のマスク描画装置において、各パス毎に露光量を所定の露光量に設定して露光する露光量設定手段(ステップS4〜S7)を設けたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

ウエーハ上のレジストに露光して、所定のパターンを描画するラスタスキャン方式のマスク描画装置において、各パス毎に露光量を所定の露光量に設定して露光する露光量設定手段を設けたことを特徴とするマスク描画装置。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/08 C ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (5件)：

2H095BA01 ,  2H095BB06 ,  2H095BB32 ,  2H095BB33 ,  2H095BE10

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 電子線描画方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-295724   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭54-089579
  
• 特開昭54-089579